Polski duet od wyzwań w przemyśle. Co daje kooperacja Gekko Photonics i OMC ENVAG zakładom chemicznym i rafineryjnym

Zdjęcie: Polski duet od wyzwań w przemyśle


W polskim przemyśle procesowym od lat powtarza się dobrze znany problem: mimo kolejnych inwestycji w czujniki, aparaturę i systemy raportowe, w decydujących momentach zakłady chemiczne, rafinerie czy oczyszczalnie ścieków przez cały czas opierają się na intuicji operatorów. Dane są dostępne, ale często zbyt rozproszone lub zbyt wolne, by przełożyć je na szybkie i wiarygodne decyzje operacyjne -...